Die Gruppe verfügt über unterschiedliche Implantationsanlagen für verschiedenste Anwendungen. Es wird ein Energiebereich von wenigen keV bis in den MeV-Bereich abgedeckt, das Spektrum an implantierten Elementen wird stetig erweitert. Das Hauptaugenmerk liegt bei der Implantation in Halbleiter.

Zunehmendes Interesse erfährt die Implantation in Nichthalbleiter (Metalle, Kunststoffe, Biomaterialien), für die am Institut eigens spezielle Implantationsanlagen mit großvolumigen Probenkammern entwickelt wurden.

Zur Prozesskontrolle wurde mit dem Programm ENCOTION eine Software zur Simulation von Massenspektren und Masseninterferenzen entwickelt, die besonders bei der Entwicklung von kontaminationsfreien Implantationsprozessen eingesetzt wird.