Die Gruppe "Lithographie" entwickelt physikalisch/chemische Modelle, numerische Algorithmen und Software für die Simulation lithographischer Prozesse. Die entwickelte Software umfaßt Module zur Simulation der Prozeßschritte Pre-Bake, Belichtung, Post-Exposure Bake und chemische Entwicklung des Photolacks. Die entwickelten Algorithmen für die Lithographiesimulation stehen in der Software Dr.LiTHO des Fraunhofer IISB zur Verfügung. Zusätzliche Module von Dr.LiTHO unterstützen die Bewertung und Optimierung lithographischer Prozesse bzw. erlauben die Simulation alternativer Belichtungstechniken (z.B. interferometrische Belichtungen). Neben der Modell- und Softwareentwicklung bietet die Lithographiegruppe für industrielle und akademische Partner Unterstützung bei der Prozeßentwicklung und bei Machbarkeitsstudien an.

Aktuelle Schwerpunkte der Forschungs- und Enwicklungstätigkeit der Gruppe "Lithographie" umfassen:

• Rigorose Simulation der Lichtbeugung von fortschrittlichen Masken, einschließlich defektfreier und defektbehafteter Masken für die EUV-Lithographie.
• Modellierung chemisch verstärkter Photolacke, einschließlich Modellkalibrierung mit Hilfe lokaler und globaler Optimierer.
• Bewertung und Optimierung der lithographischen Abbildung, Optimierung von Masken und Beleuchtung durch genetische Algorithmen.