Nutzergruppe Abscheide- und Ätzverfahren


Innerhalb der GMM-VDE/VDI-Gesellschaft Mikroelektronik, Mikro- und Feinwerktechnik, Fachbereich 1: Mikro- und Nanoelektronik-Herstellung, Fachausschuss 2: Verfahren, wird die Fachgruppe 3: Abscheide- und Ätzverfahren organisiert.

http://www.vde.de/VDE/Fachgesellschaften/GMM/

Übersicht über die GMM

Ziel ist es, ein offenes Forum für Diskussionen zu den Prozessbereichen Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), Plasmaunterstützte Chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) und dem Plasmaätzen zu schaffen und einen Erfahrungsaustausch zwischen Herstellern von Halbleiterbauelementen, Geräteherstellern und Forschungseinrichtungen zu ermöglichen. Hierzu werden von der Nutzergruppe Workshops zu aktuellen Themen aus den von ihr betreuten Prozessbereichen organisiert. Eine Übersicht über die Veranstaltungen und zu den Treffen der Nutzergruppe finden Sie auf dieser Seite weiter unten. Die Workshop-Vorträge können nach Eingabe einer Kennung, die über die Ansprechpartner erhältlich ist, eingesehen werden.

Weitere Interessierte für die Mitarbeit in der Nutzergruppe sind willkommen.

Ansprechpartner:

Dr. Manfred Schneegans
Infineon Technologies AG
Am Campeon 1-12
85579 Neubiberg
Tel.: 089 234 44 712
manfred.schneegans@infineon.com

Dr. Georg Roeder
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie
Schottkystraße. 10
91058 Erlangen
Tel.: 09131 761 234
georg.roeder@iisb.fraunhofer.de


Nächste Treffen

Achtung Terminverschiebung:
Planungstreffen der Fachgruppe Abscheide- und Ätzverfahren 2010 verschoben vom
Dienstag, 29. Juni 2010, 10:00 Uhr bis 15:30 Uhr, Fraunhofer IISB, Erlangen
auf
Donnerstag, 8. Juli 2010, 10:00 Uhr bis 15:30 Uhr, Fraunhofer IISB, Erlangen


Frühere Workshops und Treffen

Workshops

Neue Entwicklungen beim Abscheiden und Ätzen
26. November 2009, Fraunhofer IISB, Erlangen

Wafer Level Packaging und neue Entwicklungen beim Abscheiden und Ätzen
26. November 2008, Fraunhofer IISB, Erlangen

New developments and process optimization in deposition and etching
8. November 2007, Fraunhofer IISB, Erlangen

Optimization of mechanical layer properties; new developments in deposition and etching
14. November 2006, Fraunhofer IISB, Erlangen

Adaption neuer Prozesstechnologien auf vorhandenen Fertigungsgeräten
21. November 2005, Fraunhofer IISB, Erlangen

Prozess -und messtechnische Entwicklungen bei Abscheide und Ätzverfahren
25. November 2004, Fraunhofer IISB, Erlangen

Entwicklungen in der Plasmaätztechnologie
26. November 2003, Fraunhofer IISB, Erlangen

Automatisierte Prozesskontrolle (APC) für neue Prozesse und Materialien
27. bis 28. November 2002, Fraunhofer IISB, Erlangen

Abscheideverfahren und automatisierte Prozesskontrolle (APC)
28. Juni 2000, Fraunhofer IISB, Erlangen

Workshop Plasmaätzen
22. Juni 1999, Fraunhofer IISB, Erlangen

Workshop PVD
9. Juni 1999, Fraunhofer IISB, Erlangen

Workshop PECVD
2. Juni 1999, Fraunhofer IISB, Erlangen


Nutzergruppentreffen

Nutzergruppentreffen zu den Themen PVD&PECVD und Ätzen:
Mittwoch, 25. November 2009 von 14:00 Uhr bis ca. 18:00 Uhr, Fraunhofer IISB, Erlangen

Planungstreffen der Fachgruppe Abscheide- und Ätzverfahren 2009:
Dienstag, 23. Juni 2009, Fraunhofer IISB, Erlangen

Abscheide- und Ätzverfahren - Nutzergruppentreffen PVD, PECVD, Ätzen:
Dienstag, 25. November 2008, 14h bis ca. 18h, Fraunhofer IISB, Erlangen

Abscheide- und Ätzverfahren-Planungstreffen
3. Juni 2008, Fraunhofer IISB, Erlangen

Abscheide- und Ätzverfahren - Nutzergruppentreffen PVD & PECVD
7. November 2007, 14:00 Uhr bis 18:00 Uhr, Fraunhofer IISB, Erlangen

Abscheide- und Ätzverfahren - Nutzergruppentreffen Ätzen
7. November 2007, 14:00 Uhr bis 18:00 Uhr, Fraunhofer IISB, Erlangen

Abscheide- und Ätzverfahren - Nutzergruppentreffen PECVD
10. Juli 2007, 14:00 Uhr bis 16:00 Uhr, Fraunhofer IISB, Erlangen

Abscheide- und Ätzverfahren-Planungstreffen
10. Juli 2007, Fraunhofer IISB, Erlangen

Abscheide- und Ätzverfahren-Planungstreffen
23. Mai 2006, Fraunhofer IISB, Erlangen

Schwerpunktthema: Prozesskontrolle und -stabilisierung; robuste Prozesse
21. November 2005, Fraunhofer IISB, Erlangen

Abscheide- und Ätzverfahren
15. Juni 2005, Fraunhofer IISB, Erlangen

Abscheide- und Ätzverfahren
1. April 2004, Fraunhofer IISB, Erlangen

Abscheide- und Ätzverfahren
15. Juli 2003, Fraunhofer IISB, Erlangen

Abscheide- und Ätzverfahren
31. Mai 2001, Fraunhofer IISB, Erlangen

Plasmaätzen
27. November 1998, Fraunhofer IISB, Erlangen

PVD
6. November 1998, Fraunhofer IISB, Erlangen

PEVCD
30. Oktober 1998, Fraunhofer IISB, Erlangen
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