Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB
© Fraunhofer IISB
GMM-Nutzergruppe Prozesskontrolle, Inspektion und Analytik
Veranstaltungsdetails
Kosten
kostenlos
Veranstaltungsort
Online, voraussichtlich via MS-Teams
Datum
25. November 2021
Organisation
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB
Einladung
Wir laden Sie herzlich ein zu unserem 19. Treffen der GMM-Fachgruppe 1.2.6 "Prozesskontrolle, Inspektion & Analytik" am 25. November 2021: Beginn ist um 9 Uhr, Ende voraussichtlich gegen 17 Uhr.
Das Schwerpunktthema des Treffens ist „Massenspektroskopische Methoden in der Halbleitertechnologie“. Vorträge oder Diskussionsbeiträge zu diesem Thema sind herzlich willkommen.
Ziel der GMM-Fachgruppe ist es, ein offenes Forum für Diskussionen im Bereich der Prozesskontrolle, der Inspektion und der Analytik zu schaffen und einen Erfahrungsaustausch zwischen Herstellern von Halbleiterbauelementen (Mikroelektronik, Mikrosystemtechnik, Photovoltaik), Geräteherstellern und Forschungseinrichtungen zu ermöglichen. Aus diesem Grund sind neben Beiträgen zum oben genannten Schwerpunktthema ebenfalls Vorträge zu anderen Themen aus dem Bereich "Prozesskontrolle, Inspektion und Analytik" sehr willkommen. Sie sind daher herzlich eingeladen, interessante Themen aus Ihrem Arbeitsbereich vorzustellen. Bitte geben Sie hierzu einfach den Titel Ihres Beitrages bei der Online-Registrierung (siehe unten) an.
Die Tagesordnung sowie der Link zum virtuellen Workshop werden kurz vor dem Treffen bekannt gegeben. Voraussichtlich wird Microsoft Teams für die Veranstaltung genutzt werden.
Weitere Informationen über die GMM-Nutzergruppe "Prozesskontrolle, Inspektion und Analytik" und ihre vergangenen Treffen finden Sie hier.
Geplante Vorträge
Spurenanalytik von Reinstwasser mittels ICP-MS in der Halbleitertechnologie
Fabian Lodermeyer, Siltronic, Burghausen
Massenspektroskopie der Masse m = 0: Untersuchung von leerstellenartigen Defekten in Halbleitern mittels Positronen-Lebensdauerspektroskopie
Marcel Dickmann, Universität der Bundeswehr München, Neubiberg
Hybrid SIMS: New possibilities for advanced semiconductor structure analysis with Self-Focusing SIMS
Sven Kayser, IONTOF GmbH, Münster
Wafer Environment Control for yield enhancement in Semi Fabs
Manuel Didierjean, Pfeiffer Vacuum, Annecy/Frankreich
Analyse von Nanopartikeln mittels single particle (sp) ICP-MS, beispielhaft die Messung von 15 nm Fe2O3-Partikeln in organischen Lösungsmitteln
Jörg Hansmann, Agilent, Frankfurt a. M.
Überblick über massenspektrometrische Methoden im Bereich der Halbleiter- und Spezialanalytik
Julia Bode, Fresenius, Dresden
Anmeldung
Die Teilnahme an der Veranstaltung ist kostenfrei.
Das Online-Anmeldeformular finden sie hier.
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