Kolloquium zur Halbleitertechnologie und Messtechnik

17. Mai 2021, 17:15 Uhr, online

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Sensitive Spurenanalytik für die Halbleiterfertigung
Silke Meyer, Fraunhofer CSP, Halle

Die hochauflösende ICPMS-Analytik bietet viele Möglichkeiten für die Halbleiterfertigung. Im Vortrag wird es insbesondere um die sensitive Detektion von Verunreinigungen und die Bestimmung von Dotierstoffkonzentrationen gehen. Dabei werden verschiedenste praktische Fragestellungen beleuchtet wie die Spurenanalyse in Oxid-, PSG- oder aSi-Schichten, die Qualitätsprüfung von Prozesschemikalien, Sputtertargets und Präkursoren oder die Reinheitsüberwachung von Arbeitsplätzen. Zusätzlich werden auch Möglichkeiten zur Detektion von organischen Kontaminationen diskutiert.

Adaptive Probenahme- und Kontaminationskontrollmethoden für Silizium-, SiC- und verwandte Fertigungslinien sowie deren Lieferketten
Markus Pfeffer, Fraunhofer IISB, Erlangen

Mit schrumpfenden Strukturgrößen, dünneren Schichten, neuen Materialien, 3D-Integration, Dünn-Wafertechnologien und komplexeren Designs ist die Kontaminationskontrolle eine ständige Herausforderung und eine Voraussetzung für eine kontinuierliche Qualitätskontrolle und das Erreichen hoher Ausbeuten in den Fertigungsprozessen. Neben den eingesetzten Analysemethoden werden insbesondere auch die Probennahme und Probenvorbereitung thematisiert.