Nutzergruppentreffen  /  December 05, 2023

GMM-Nutzergruppentreffen "Abscheide- und Ätzverfahren"

Einladung

 

Wir laden Sie herzlich ein zu unserem Treffen der GMM-Nutzergruppe "Abscheide- und Ätzverfahren" am 5. Dezember 2023.
ics-Datei mit Termin

Im Rahmen des Treffens werden in einer Runde der IC-Hersteller fachliche Themen aus den Prozessbereichen PVD & PECVD, ECD und Ätzen diskutiert. Die Teilnahme an diesem vertraulichen Nutzergruppentreffen ist für Nutzer von Halbleiter-Anlagen im Bereich Abscheide- und Ätzerverfahren vorbehalten. Dazu ist jede teilnehmende Person aufgerufen, ein Problem, einen Diskussionspunkt oder aktuelle Arbeiten in einer Präsentation von zwei bis fünf Folien zur Diskussionsvorbereitung vorzutragen. Die Beiträge sollen im Kreis der mitwirkenden Personen bleiben und werden nicht veröffentlicht.

Ziel der GMM-Nutzergruppe "Abscheide- und Ätzverfahren" ist es, ein offenes Forum für Diskussionen zu den Prozessbereichen Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), Plasmaunterstützte Chemische Gasphasenabscheidung (PECVD), Elektrochemische Abscheidung (ECD), allgemein von Abscheideverfahren und dem Plasmaätzen zu schaffen und einen Erfahrungsaustausch zwischen Herstellern von Halbleiterbauelementen, Geräteherstellern und Forschungseinrichtungen zu ermöglichen. Hierzu werden von der Nutzergruppe Treffen und Workshops zu aktuellen Themen aus den von ihr betreuten Prozessbereichen organisiert. Eine Übersicht der Veranstaltungen und Treffen der Fachgruppe finden Sie hier. Weitere Interessierte für die Mitarbeit in der Nutzergruppe sind herzlich willkommen.

Über Ihre Teilnahme am GMM-Nutzergruppentreffen "Abscheide- und Ätzverfahren" am 5. Dezember 2023 würden wir uns sehr freuen. Bitte melden Sie sich spätestens bis zum 22. November 2023 an.

Auch in diesem Jahr findet das Treffen einen Tag vor dem (kostenpflichtgen) Workshop der GMM-Nutzergruppe "Abscheide- und Ätzverfahren" in unserem Haus statt. Weitere Informationen und die Anmeldung zum Workshop am 6. Dezember 2023 in unserem Haus finden Sie hier.