GMM-Fachgruppe 1.2.3 Abscheide- und Ätzverfahren

Ziel der Nutzergruppe ist es, ein offenes Forum für Diskussionen zu den Prozessbereichen Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), Plasmaunterstützte Chemische Gasphasenabscheidung (PECVD), Elektrochemische Abscheidung (ECD), allgemein von Abscheideverfahren und dem Plasmaätzen zu schaffen und einen Erfahrungsaustausch zwischen Herstellern von Halbleiterbauelementen, Geräteherstellern und Forschungseinrichtungen zu ermöglichen. Hierzu werden von der Nutzergruppe Workshops zu aktuellen Themen aus den von ihr betreuten Prozessbereichen organisiert. Eine Übersicht über die Veranstaltungen und zu den Treffen der Nutzergruppe finden Sie hier.

Weitere Interessierte für die Mitarbeit in der Nutzergruppe sind willkommen.


Das nächste Nutzergruppentreffen findet statt am

10. Dezember 2019 am Fraunhofer IISB in Erlangen.


Der diesjährige Workshop findet statt am

11. Dezember 2019 am Fraunhofer IISB in Erlangen.

Schwerpunktthemen sind "Electrochemical Deposition" und
"New Developments in Deposition and Etching".


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