GMM-Fachgruppe 1.2.3 Abscheide- und Ätzverfahren

Ziel der Nutzergruppe ist es, ein offenes Forum für Diskussionen zu den Prozessbereichen Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), Plasmaunterstützte Chemische Gasphasenabscheidung (PECVD), Elektrochemische Abscheidung (ECD), allgemein zu Abscheideverfahren und zum Plasmaätzen zu schaffen und einen Erfahrungsaustausch zwischen Herstellern von Halbleiterbauelementen, Geräteherstellern und Forschungseinrichtungen zu ermöglichen. Hierzu werden von der Nutzergruppe Workshops zu aktuellen Themen aus den von ihr betreuten Prozessbereichen organisiert. Eine Übersicht über die Veranstaltungen und zu den Treffen der Nutzergruppe finden Sie hier.

Weitere Interessierte für die Mitarbeit in der Nutzergruppe sind willkommen.

Das nächste Nutzergruppentreffen findet online statt am
25. November 2020

Der diesjährige Workshop findet online statt am
26. November 2020

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