Dieser bietet ein einmaliges offenes Forum für den Erfahrungsaustausch zwischen Herstellern von Halbleiterbauelementen, Geräteherstellern und Forschungseinrichtungen. Neben den Möglichkeiten zum Netzwerken gab es hochkarätigen fachlichen Input aus den Bereichen Oberflächen- und Plasmatechnologien. Der thematische Schwerpunkt lag auf neuen Einzelprozessen für Abscheide- und Ätzverfahren im Bereich der Halbleiterprozessierung.