Nutzergruppe Ionenimplantation

Ionenimplantation

Die Nutzergruppe Ionenimplantation wurde im Jahre 1987 von Hans Glawischnig (Siemens AG) und Heiner Ryssel (Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie, Erlangen und Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente, Universität Erlangen-Nürnberg) nach dem Vorbild der GSVIUG (Greater Silicon Valley Ion Implant User Group) gegründet. Bis zum 25. Treffen wurden die Protokolle der Sitzung mit Kopien der gezeigten Folien postalisch versandt bzw. auf der darauf folgenden Sitzung verteilt. Seit dem 25. Treffen existiert diese Homepage und alle Einladungen und Protokolle werden nur noch elektronisch verteilt.

Die Veranstaltungen der Nutzergruppe Ionenimplantation werden gemeinsam von der ITG-Fachgruppe 8.1.1 und der GMM-Fachgruppe 1.2.2 organisiert.

Aus der Nutzergruppe Ionenimplantation ging die Nutzergruppe Heißprozesse und RTP hervor. Seither werden die Treffen der beiden Gruppen an zwei aufeinander folgenden Tagen durchgeführt. Am Nachmittag des ersten Tages findet das Nutzertreffen Heißprozesse und RTP, am zweiten Tag das Nutzertreffen Ionenimplantation statt.

Nächstes Treffen der Nutzergruppe:

4. April 2019 am Fraunhofer IISB in Erlangen

 

 

 

 

Vergangene Treffen

 

Nr.

Ort und Datum

Thema

 

59.

Fraunhofer IISB, Erlangen
12. April 2018

Kontamination und Defektdichte

 

58.

Vishay Siliconix, Itzehoe
9. November 2017

Implantation für Power Devices

 

57.

X-FAB, Erfurt
30. März 2017

Dosisgenauigkeit und Reproduzierbarkeit

 

 

Erlanger Symposium Ionenimplantation
9. Dezember 2016

Aktuelle Forschungsthemen, Highlights und Rückblicke aus dem Gebiet der Ionenimplantation

 

56.

Fraunhofer IISB, Erlangen
8. Dezember 2016

Rückblick auf die IIT 2016,
IIT 2018 in Würzburg

 

55.

Fraunhofer IISB, Erlangen
7. April 2016

Vorstellung von Nutzergruppen und exotischen Anwendungen

 

54.

Infineon Technologies, Regensburg
26. November 2015

Bewerbung IIT 2018 in Deutschland, Prozesskontrolle

 

53.

Fraunhofer IISB, Erlangen
26. März 2015

Vorstellung von Nutzergruppen und exotischen Anwendungen

 

52.

Infineon Technologies, Dresden
13. November 2014

Rückblick auf die IIT 2014 sowie Vorstellung von Nutzergruppen

 

51.

Fraunhofer IISB, Erlangen
3. April 2014

Vakuumerzeugung und Prozesskontrolle

 

50.

IHP GmbH, Frankfurt (Oder)
7. November 2013

Jubiläum der Nutzergruppe

 

49.

Fraunhofer IISB, Erlangen
11. April 2013

Prozesskontrolle,
Energieeffizienz

 

48.

PLANSEE SE, Reutte/Österreich
27. September 2012

Rückblich auf die IIT 2012 sowie alle aktuellen Themen aus der Ionenimplantation

 

47.

Fraunhofer IISB, Erlangen
22. März 2012

Anlagen- und Prozessmonitoring

 

46.

centrotherm GmbH & Co. KG, Blaubeuren
24. November 2011

Partikel: Anforderungen, Vermeidung & Messung

 

45.

Fraunhofer IISB, Erlangen
12. Mai 2011

Erfahrungen mit Chain-Implants,
Line etch roughness

 

44.

Robert Bosch GmbH, Reutlingen
11. November 2010

Low power devices

 

43.

Fraunhofer IISB, Erlangen
6. Mai 2010

Neue Anforderungen in der Ionenimplantation, Implantation exotischer Elemente

 

42.

Rubitec, Bochum
12. November 2009

Implantation für Leistungsbauelemente, Implantation von Ge-Ionen, Ionenmix

 

41.

Fraunhofer IISB, Erlangen
7. Mai 2009

Verschiedene Themen

 

40.

ELMOS, Dortmund
24. Oktober 2008

IIT 2008 sowie Fernwartung, Vernetzung und Datensicherheit

 

39.

Fraunhofer IISB, Erlangen
9. Mai 2008

Verschiedene Themen

 

38.

Forschungszentrum Dresden-Rossendorf
9. November 2007

Neue Dotierungen für zukünftige Bauelemente

 

37.

Fraunhofer IISB, Erlangen
11. Mai 2007

Neue Dotierungen für zukünftige Bauelemente, Statistik

 

36.

Infineon, Villach
24. November 2006

Prozess- und Maschinenkontrolle, Clusterionen

 

35.

Fraunhofer IISB, Erlangen
19. Mai 2006

Kontamination / Erfahrungen mit alternativen Gassystemen

 

34.

Reutte, Tirol
11. November 2005

International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS)

 

33.

Fraunhofer IISB, Erlangen
13. Mai 2005

Exotische Ionen/Sicherheit

 

32.

Micronas, Freiburg,
14. Mai 2004

Prozess- und Maschinenkontrolle

 

31.

Fraunhofer IISB,Erlangen,
28. November 2003

Silicon on Insulator und
Batch Processing vs Single Wafer Processing

 

30.

Texas Instruments, Freising,
16. Mai 2003

Sicherheit/Dosimetrie

 

29.

Fraunhofer IISB, Erlangen,
08.11.2002

Aufladungseffekte (Charging) und Dosimetrie

 

28.

IHP, Frankfurt (Oder),
26.04.2002

Devices / Implanter Matching und Kontamination

 

27.

FhG, Erlangen,
16.11.2001

Source Drain Engineering und Kanaldotierung

 

26.

Infineon, München,
11.5.2001

Neue Anlagen und Erfahrungen mit neuen Anlagen

 

25.

FhG, Erlangen,
5.5.2000

Wartung und Requalifizierung
(3 MB)

 

24.

FhG, Erlangen,
19.11.99

Großflächige Ionenimplantation
(19 MB)

 

23.

FhG, Erlangen,
7.5.99

Kontrolle der Ionenimplantation
(12 MB)

 

22.

IMSAS, Bremen,
12.11.98

Neue Implantationssysteme
(11 MB)

 

21.

FhG, Erlangen,
29.5.98

Prozesskontrolle
(8 MB)

 

20.

Siemens, Dresden,
30.10.97

Hochenergie, SDS
(15 MB)

 

19.

Bosch, Reutlingen,
25.4.97

Neue Maschinentrends und FIB
(4 MB)

 

18.

Thesys, Erfurt,
11.10.96

Charging
(6 MB)

 

17.

Universität Bochum, Bochum,
26.4.96

Messtechnik, Analytik
(2 MB)

 

16.

Siemens, Regensburg,
20.10.95

Messtechnik, Anlagenkontrolle
(8 MB)

 

15.

FhG, Erlangen,
27.4.95

Flache pn-Übergänge
(3 MB)

 

14.

Eaton, Kirchheim,
27.9.94

Vorstellung der Arbeitsgruppen
(3 MB)

 

13.

ZMD, Dresden,
2.12.1993

Vorstellung der Arbeitsgruppen
(4 MB)

 

12.

Philips, Hamburg,
11.2.9

Neue Bundesländer (Scanibal......)

 

11.

FhG, Erlangen,
4.6.92

Umwelt, Entsorgung, Anlagenmodi

 

10.

App. Mat., Ismaning,
2.10.91

Ausheilung, Defekte, Implantationsfehler

 

9.

Siemens, Regensburg,
26.2.91

Anlagenentwicklung

 

8.

IMS, Stuttgart,
26.9.90

SIMOX, Dosismessung, Round Robin

 

7.

Siemens, Balanstr.,
31.1.90

Simulation, Meßtechnik

 

6.

Varian, Stuttgart,
21.9.89

SPC

 

5.

Siemens, Balanstr.,
26.1.89

Partikel und Kontamination

 

4.

FhG, Erlangen,
22.9.88

Flood Gun, Teststrukturen, Simulation

 

3.

Siemens, Balanstr.,
10.3.88

Sicherheit von Implantationsanlagen

 

2.

IBM, Böblingen,
5.10.87

Charakterisierung, Simulation

 

1.

Siemens, Balanstr.,
15.5.87

Gründerversammlung