Treffen der Nutzergruppen "Heißprozesse und RTP" und "Ionenimplantation"

Wir laden Sie herzlich ein zu unseren Treffen der GMM-Nutzergruppen:

"Heißprozesse und RTP" am 15. Mai 2024, Beginn 13 Uhr, Ende voraussichtlich gegen 17 Uhr
Alle aktuellen Themen, die sich mit Heißprozessen und RTP beschäftigen, sind erwünscht. Nach den Vorträgen wird es ein Diskussionsforum geben.

ics-Datei mit Termin

Folgende Beiträge liegen bereits vor (Reihenfolge nicht bindend): 

CVD-Prozess als Alternative zur POCl3-Dotierung
Dr. P. Dill, Fraunhofer IPMS

A Noble Cause: Neon Conservation Techniques for Laser Anneal
Dr. S. Onishi, Infineon Technologies Dresden GmbH

Conductive heating for SiC wafers processing
Dr. X. Pages, Levitech

Flash lamp annealing for role-to-role applications
Dr. L. Rebohle, Helmholtz-Zentrum

Laserbasierte Wärmebehandlung zur Wirkungsgradstabilisierung und -steigerung von Solarzellen
Dr. S. Roder, Fraunhofer ISE

"Ionenimplantation" am 16. Mai 2024, Beginn 10 Uhr, Ende voraussichtlich gegen 16 Uhr
Der Themenschwerpunkt ist Siliciumcarbid. Darüber hinaus sind Beiträge zu aktuellen sowie exotischen Themen der Ionenimplantation sehr willkommen. Auch hier ist ein Diskussionsforum geplant.

ics-Datei mit Termin

Folgende Beiträge liegen bereits vor (Reihenfolge nicht bindend): 

Erfahrungsaustausch - Source Lifetime mit Diskussion
L. Ende, X-FAB

Advancing SiC Manufacturing with Deep Proton Implants 
H. Jayaprakash, mi2-factory GmbH

iON Technology Solutions- Enhanced ion sources and electrodes
C. Kaeslin, iON Technology Solutions

Pinning of Basal Plane Dislocations (BPD) in SiC by Energy-Filtered Ion Implantation
Prof. M. Rüb, mi2-factory GmbH

Reinraum-Laborführung im Fraunhofer IPMS sowie Besuch des Showrooms (vormittags)
A. Scheit, Fraunhofer IPMS

Transformation von Si zu SiC: Wie - Warum - Wann?
Dr. W. Schustereder, Infineon Technologies Austria AG

Ion implantation + sub-second annealing: a versatile route towards hyperdoped semiconductors
Dr. S. Zhou, Helmholtz-Zentrum
 

Im Anschluss an das Treffen "Heißprozesse und RTP" am 15. Mai 2024 treffen wir uns zu einem gemeinsamen Abendessen im Enchilada Dresden (außer Haus, Selbstzahler).

Wir möchten Sie dazu ermuntern, selbst einen Beitrag beizusteuern, gerne auch einen sehr kurzen. Bitte geben Sie dazu den Titel und die ungefähre Dauer des Vortrags bei der Anmeldung mit an. Alle aktuellen Themen aus den Bereichen Heißprozesse und RTP sowie Ionenimplantation sind willkommen. Es besteht keine Beitragspflicht.

Die weitere Tagesordnung wird kurz vor dem Treffen bekannt gegeben.

Die Teilnahme an der Veranstaltung ist kostenfrei.
 

Online-Anmeldung (bitte bis zum 6. Mai)