Treffen der Nutzergruppen "Heißprozesse und RTP" und "Ionenimplantation"

Vielen Dank für die zahlreiche Teilnahme am 53. Treffen der GMM-Nutzergruppe  "Heißprozesse und RTP" und dem 69. Treffen der GMM-Nutzergruppe "Ionenimplantation" am 12. und 13. November 2025 im Fraunhofer IISB in Erlangen. 

Hier finden Sie die uns zur Verfügung gestellten Beiträge der Referenten. 
Der Zugang ist nur für die Teilnehmer möglich, die per Email das Passwort zugeschickt bekommen haben. 

Gruppenfoto

"Heißprozesse und RTP" am 12.11.2025,

Maximilian Ley, Fraunhofer IISB
Optimization of Ohmic Contacts: From Test Structure Design to Systematic RTP Process Development

Lars Jäger, centrotherm international AG
Leveraging the advantages of the box concept

Lars Rebohle, Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf
A flip-chip bonding approach by flash lamp annealing

Umasangar Pillai, Tarius Technology PTE LTD
Online Real-Time Monitoring of Heating Elements condition for Horizontal and Vertical Diffusion Furnaces. Technology and Benefits for Users

Silke Hamm, Mattson International GmbH
New RTP Cluster Tool Development - COLMAR 

Wilfried Lerch, Fraunhofer EMFT
www.iitvillach2026.com - Status der Planungen

"Ionenimplantation" am 13.11.2025,

Jürgen Rosenberg, Axcelis Technologies GmbH
Vergleich Material AlI3 zu AlCl3 zum Erzeugen von Aluminium Implants

Shengqiang Zhou, Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf
Superconducting Ge and SiGe by Ga implantation

Benjámin Vígh, Semilab Semiconductor Physics Laboratory Co.
Usability of mercury probe systems for ion implantation characterization and monitoring

Markus Lechner, Coherent
Coherent’s Ion Implantation Foundry & Disk Refurbishment Services – A brief update