ENGAGE
Entwicklung von n-typ basierten GaAs-Dioden für die nachhaltige, globale Energieversorgung
Die aktuelle Entwicklung im Bereich der Leistungselektronik ist getrieben von der Steigerung der elektrischen Effizienz, um elektrische Bauteile einerseits so kompakt wie möglich, aber andererseits auch so günstig wie möglich zu betreiben. In diesem Projekt sollen maßgebliche Verbesserungen durch die Verwendung von GaAs-Dioden erreicht werden.
Im Rahmen des Verbundprojektes ENGAGE werden neuartige Hochleistungsdioden (pin & MPS) auf n-typ GaAs Wafermaterial entwickelt, welche durch Anpassung an den industriellen Standard und hohe Performance in den Spannungsklassen bis 1200 V eine effiziente und kostengünstige Alternative zu SiC und Si Dioden darstellen werden.
Das Verbundprojekt ist entsprechend entlang der Wertschöpfungskette vom GaAs-Wafer bis zum Bauelement ausgerichtet und kombiniert die besonderen Fähigkeiten aller Partner zur Erzeugung innovativer Produkte für die Hochleistungselektronik.
Projektlaufzeit: 01.01.2025 - 31.12.2027
Projektpartner:
- Technische Universität Bergakademie Freiberg, Institut für Angewandte Physik
- 3-5 Power Electronics GmbH
- Plasway-Technologies GmbH
- Freiberger Compound Materials GmbH
- Fraunhofer IISB, Gruppen Operando und in-line Analytik und Spektroskopie und Testbauelemente
Förderung: EFRE/JTF, SAB, Freistaat Sachsen
Förderkennzeichen: 100685804
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB