Treffen der Nutzergruppen "Heißprozesse und RTP" und "Ionenimplantation"

Vielen Dank für die zahlreiche Teilnahme am 52. Treffen der GMM-Nutzergruppe  "Heißprozesse und RTP" und dem 68. Treffen der GMM-Nutzergruppe "Ionenimplantation" am 21. und 22. Mai 2025 bei centrotherm international AG in Blaubeuren

Hier finden Sie die uns zur Verfügung gestellten Beiträge der Referenten. 
Der Zugang ist nur für die Teilnehmer möglich, die per Email das Passwort zugeschickt bekommen haben. 

Gruppenfoto

Ambient related effects on oxide thickness distribution specific for SiC oxidation
Tamara Fidler, centrotherm international AG

IBS European OEM
Cyrille Guillou, Ion beam services

Obsolescence Management
Cyrille Guillou, Ion beam services

TLM measurements and challenges in ohmic contact formation for 4H-SiC p-type contacts - folgt zeitnah
Maximilian Ley, Fraunhofer IISB

Schnelle CV-MessungalsMethode des Implanter Monitorings
Thomas Obitz, X-FAB Dresden GmbH & Co. KG

Synergies between thin films, etchingand thermal processing on Si and SiC
Toni Sandbrink-Koblenz, memsstar ltd.

Ion Implanter for Power Devices
Reinhard Wagner, ICW GmbH 

Volker Heilmann kann seinen Beitrag nicht zur Verfügung stellen, steht aber für das Thema "Vorstellung/Update des sub-atmosphärischen Anliefersystems ION-X® für Implantgase" unter volker.heilmann@numat.com für Fragen gern zur Verfügung.