Nutzertreffen "PVD, PECVD, Ätzen"

December 10, 2013

Fraunhofer IISB, Erlangen

PVD, PECVD, Ätzen


Vorstellung und Diskussion von aktuellen Themen aus den Bereichen Ätzen/PECVD/PVD
Franz Nilius, Micronas GmbH, Freiburg, Germany

Process Zoo: Difficulties and Issues in a Pure-Play Foundry
Frank Michael Schulze, X-FAB Dresden GmbH & Co. KG, Germany

Untersuchung des Einflusses des Metalltemperprozesses auf Leitbahnkorrosion
Christian Bromberger, DONAUPLAZA GmbH (ehem. Telefunken), Heilbronn, Germany

Blockierte Wolfram CVD und Metallstrukurierungsprobleme
Dirk Wolansky, IHP-Innovations for high performance microelectronics, Frankfurt (Oder), Germany

0.13 µm BiCMOS ILD Deposition using a Silane HDP Process
Marco Lisker, Andreas Krüger, IHP-Innovations for high performance microelectronics, Frankfurt (Oder), Germany

Entwicklung und Optimierung neuartiger Plasmaprozesse
Sven Zimmermann, Fraunhofer ENAS, Chemnitz, Germany

Semiconductor Retrofit Truplasma RF 1000 Series
Christoph v. Knoblauch, TRUMPF Hüttinger GmbH & Co. KG, Freiburg, Germany