49. Treffen der Nutzergruppe Ionenimplantation

Begrüßung
Heiner Ryssel, Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (IISB), Erlangen

Discussion Regarding Implanter Monitoring
Dietmar Henke, Globalfoundries, Dresden

Implant Tool Matching - Some Remarks
Dieter Fuchs & Christian Krüger & Werner Schustereder, Infineon Technologies, Regensburg, Dresden & Villach/Österreich

Energieeffizienz in der Halbleiterfertigung – Geräte- und Fabrikaspekte
Markus Pfeffer, Fraunhofer IISB, Erlangen

Purion M – Leading Productivity
Olivia Keller & Serafino Vulcano, Axcelis Technologies, Beverly/USA & Agrate Brianza/Italy

Ionenimplantation für die Solarindustrie
Claus Schöllhorn, Bosch Solar Energy, Arnstadt

Impact of Temperature Variations and Time on Dose Measurements with TWIN
Kristian Schulz, JenaWave, Jena

Eine robuste Lösung für das Reinigen von Prozesskammern (Ion Implant, Dry Etch, CVD, PVD, ALD) mit neuer Generation von DSP (Diamond Scrub Pads)
Alexandre Paradis, Euris, München

Neue Implantationsanlage Optima MDx am IISB
Volker Häublein, Fraunhofer IISB, Erlangen

Diskussion mit anschließender Reinraum-/Laborführung