54. Treffen der Nutzergruppe Ionenimplantation

Begrüßung
Volker Häublein, Fraunhofer IISB, Erlangen
Dietmar Henke, Globalfoundries, Dresden

Kurzvorstellung Infineon Technologies
Klaus Kerkel, Infineon Technologies, Regensburg

Ionenimplantation in SiC
Werner Schustereder, Infineon Technologies, Villach/Österreich

Diskussion: Unterstützung durch die Nutzergruppe für die Bewerbung zur Durchführung der IIT 2018
Einführung: Heiner Ryssel, Fraunhofer IISB, Erlangen

Demo: MKS-RGA an Varian VIISta 900 XEr
Alexander Scheit, IHP, Frankfurt (Oder)

VIISta PLAD Update
Reiner Kaspareit, Applied Materials, Dresden

Hyperdoping of silicon using Se-Implantation and flash lamp annealing
Yonder Berencen, Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf

Wafer 17 Effekt
Alexander Scheit, IHP, Frankfurt (Oder)

Uth-Einfluss durch Anlagensplitt bei der As-Hochdosis-Ionenimplantation
Arnd Hürrich, Fraunhofer IPMS, Dresden