55. Treffen der Nutzergruppe Ionenimplantation

Begrüßung
Volker Häublein, Fraunhofer IISB, Erlangen

Ionenimplantation bei ABB, Lenzburg
Gerhard Kunkel, ABB Semiconductor, Lenzburg/Schweiz

Ionenimplantationsservice von 1 keV bis 50 MeV der HZDR Innovation GmbH
Andreas Kolitsch, HZDR Innovation, Dresden

Kurzvorstellung der Vishay Siliconix Itzehoe GmbH
Yves Ritterhaus, Vishay Siliconix, Itzehoe

Einsatz von Hochdosisimplantation zur Einstellung der thermoelektrischen Eigenschaften von Polysiliziumschichten
Erik Teuber, Fraunhofer IISB, Erlangen

Neuartige Metallionenquellen auf Basis der Magnetron-Sputtertechnologie
Ullrich Hartung, Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik (FEP), Dresden

Modification of Polypropylene Films for Thin Film Capacitors by Ion Implantation
Volker Häublein, Fraunhofer IISB, Erlangen

Update zur Bewerbung IIT 2018
Heiner Ryssel, Fraunhofer IISB, Erlangen