58. Treffen der Nutzergruppe Ionenimplantation

Begrüßung
Volker Häublein, Fraunhofer (IISB), Erlangen

Vorstellung der Vishay Siliconix Itzehoe GmbH
Markus Horn, Vishay Siliconix, Itzehoe

Vorstellung Bereich Ionenimplantation der VSIG
Yves Ritterhaus, Vishay Siliconix, Itzehoe

Kurzvorstellung der Firma ICW UG
Reinhard Wagner, ICW UG, Reichertshausen

High Performance High Temperature Ion Implanter for Manufacturing SiC Power Devices
Zhao Weijiang, Nissin Ion Equipment, Kyoto, Japan

Der Prozesstransfer von VIISion zu VIISta80HP und seine Herausforderungen
Yves Ritterhaus, Vishay Siliconix, Itzehoe

Energy Filter for Ion Implantation (EFII) in SiC Power Device Fabrication
Florian Krippendorf, mi2-factory, Jena

In-Line Inspection of Crystalline Defects Related to Ion Implantation and Annealing
David Cseh, Semilab Germany, Budapest, Ungarn

Update IIT 2018
Volker Häublein & Heiner Ryssel, Fraunhofer IISB, Erlangen