Treffen der GMM-Fachgruppe 1.2.6 "Prozesskontrolle, Inspektion & Analytik"

Elektrische Rasterkraftmikroskopie - ein Exkurs von den technischen Möglichkeiten zu den Anwendungen
Dr. Anne-D. Müller, Anfatec Instruments AG, Oelsnitz

Kapazitätsmessungen auf der Nanoskala mittels SCM und Nano-DLTS
Dr. Heidemarie Schmidt, Universität Leipzig, Institut für Experimentelle Physik II, Leipzig

TUNA als sensitive Technik für die elektrische Charakterisierung von hoch-epsilon-Schichten auf der Nanometerskala
Dr. Vasil Yanev, Fraunhofer IISB, Erlangen

Nanomechanic Properties of Low-k Dielectric Materials
Dr. Dmytro Chumakov, AMD Saxony LLC & Co. KG, Dresden

Charakterisierung von Self-Assembled Monolayers (SAMs) auf Si und Ge
Prof. Bernd Kolbesen, Universität Frankfurt, Institut für Anorganische Analytische Chemie, Frankfurt

Current probe developments for high resolution, magnetic force and thermal imaging
Dr. Oliver Krause, NanoWorld Services, Erlangen

SPM technology in an industrial production environment
Dr. Frank F. Hitzel, DME, Kopenhagen

Semiconductor applications obtained by AFM from the viewpoint of an analytical service lab
Dr. André Möller, SGS Institut Fresenius GmbH, Dresden