Institutsgeschichte

Geschichte des IISB – von 1985 bis heute

Das Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB in Erlangen hat sich als wichtiges Zentrum der angewandten Forschung und Entwicklung für elektronische Systeme, Leistungselektronik, Halbleitertechnologie und Materialentwicklung in der Metropolregion Nürnberg, Deutschland und Europa etabliert.

Es wurde 1985 gegründet, als die Fraunhofer-Gesellschaft das in Erlangen ansässige "Zentrum für Mikroelektronik und Informationstechnik GmbH" übernahm und zur Fraunhofer-Arbeitsgruppe für Integrierte Schaltungen AIS machte. Innerhalb dieser Arbeitsgruppe gab es die Abteilung Bauelementetechnologie AIS-B, die im Jahr 1993 zu einem Fraunhofer-Institut (IIS-B) wurde. Das IIS-B war aber noch formell mit dem Schwesterinstitut IIS-A, dem heutigen Fraunhofer-Institut für Integrierte Schaltungen IIS in Erlangen-Tennenlohe, verbunden. Im Herbst 1994 bezog das IIS-B ein neues Institutsgebäude auf dem Campus der Technischen Fakultät in Erlangen. Anfang 2003 wurden IIS-A und IIS-B zu formal voneinander unabhängigen Instituten und tragen seither die Namen "Fraunhofer-Institut für Integrierte Schaltungen IIS" und "Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB". Sie sind die einzigen Fraunhofer-Institute, die ein Schwesterinstitut haben.

Von 1985 bis zu seiner Pensionierung im Jahr 2008 leitete Prof. Heiner Ryssel das IISB. Im Oktober 2008 trat Prof. Lothar Frey die Nachfolge von Prof. Ryssel an. Zwischen 2018 und 2021 wurde das IISB kommissarisch von Prof. Martin März geleitet. Seit dem 1. September 2021 ist Prof. Jörg Schulze Leiter des IISB.

 

Meilensteine der Entwicklung des Fraunhofer IISB (pdf-Datei)

Die Pretzfeld-Story

Halbleiter aus der Fränkischen Schweiz

© Karl Heinz Loch
Die Wiege der Silizium-Elektronik: Schloss Pretzfeld im gleichnamigen Dorf in Wiesenttal in der Fränkischen Schweiz

Nach dem zweiten Weltkrieg war die Firma Siemens auf der Suche nach neuen Standorten als Ersatz für das zerstörte Berlin. Bereits 1944 war der bekannte Physiker Walter Schottky mit seiner Familie von Berlin nach Pretzfeld umgezogen, einer der Gründe für die Eröffnung des Siemens-Labors im Schloss Pretzfeld 1946 unter der Leitung von Eberhard Spenke. Es war ein Glücksfall, dass mit Schottky und Spenke – ergänzt durch Heinrich Welker in Erlangen – gleich mehrere Physiker von internationalem Rang in der Region zusammenkamen. Dank ihnen erlangte die deutsche Halbleiterforschung in den 50er Jahren weltweite Bedeutung.

Das Jahrzehnt von 1946 bis 1956 wurde dabei von äußerst dynamischen Fortschritten geprägt. Wichtige Entwicklungen aus Pretzfeld aus dieser Zeit sind unter anderem das heute weltweit verwendete und als "Siemens-Prozess" bekannte Verfahren zur Gewinnung von Reinstsilizium und die Herstellung des ersten Silizium-Leistungsgleichrichters. Anfang der 50er Jahre wurden auch verschiedene Materialien bezüglich ihrer Eignung für Halbleiterbauelemente untersucht, darunter das bekannte Germanium. Allerdings war Germanium nicht für höhere Temperaturen geeignet. Siemens-Pretzfeld setzte – goldrichtig – auf Silizium, das dann weltweit seinen Siegeszug antrat.

Bis in die 80er Jahre arbeiteten die Forscherinnen und Forscher in Pretzfeld an Entwicklungen für die Leistungselektronik. 1990 erfolgte unter dem Namen eupec die Zusammenlegung des Siemens-Labors mit den Halbleiteraktivitäten der Firma AEG. Erst 2002 wurde der Standort aufgegeben. Heute erinnert nur noch die Walter-Schottky-Straße in Pretzfeld an die High-Tech-Vergangenheit des im Jahr 1145 erstmals urkundlich erwähnten Schlosses. Die in Pretzfeld begründeten Technologien stecken heute in jedem Smartphone, Laptop oder Fernseher, ebenso in jeder Solaranlage und in modernen Stromnetzen. Eine Energiewende wäre ohne diese Grundlagen nicht möglich.

Foto der Kristallzieherei in Pretzfeld um 1955 mit Anlagen zur Einkristall-Herstellung durch das tiegelfreie Zonenziehen.
© Siemens
Foto der Kristallzieherei in Pretzfeld um 1955 mit Anlagen zur Einkristall-Herstellung durch das tiegelfreie Zonenziehen
Fertigung von Leistungsbauelementen in Pretzfeld in den 1970er Jahren.
© Siemens
Fertigung von Leistungsbauelementen in Pretzfeld in den 1970er Jahren
Forschung zu Leistungsbauelementen am Fraunhofer IISB heute.
© Fraunhofer IISB
Forschung zu Leistungsbauelementen am Fraunhofer IISB heute

Prof. Georg Müller über die Pretzfelder Technikgeschichte

Ein Beitrag von Radio Gong

Die ganze Computertechnik kommt aus dem Silicon Valley? Mitnichten! Was hierzulande kaum jemand weiß: In einem alten Schloss im idyllischen Dorf Pretzfeld in der Fränkischen Schweiz wurden in der Nachkriegszeit – und lange vor Intel und Co. – wichtige Grundlagen erarbeitet und Erfindungen von weltweiter Bedeutung gemacht.

Prof. Georg Müller, Gründer des renommierten Erlanger Kristall-Labors und langjähriger Leiter der Abteilung Materialien am IISB, spricht über den berühmten "Siemens-Prozess" und weitere Pionierleistungen in der Halbleiterforschung, die aus den Pretzfelder Laboren hervorgegangen sind.

Artikel, Publikationen und Beiträge rund um Pretzfeld

Zeitschrift Fränkische-Schweiz-Verein e.V., 2020: "Von Franken in die ganze Welt – Wie auf Schloss Pretzfeld die Siliziumrevolution begann"

Zeitschrift "Elektronik-Praxis", 2019: "1953: Der erste Silicium-Einkristall"

Sonderausstellung KRISTALLE! im Museum Industriekultur in Nürnberg, 2017: Pressemitteilung und Video des Fraunhofer IISB

Dissertation Kai Christian Handel, 1999: Anfänge der Halbleiterforschung und -entwicklung

Siemens Zeitschrift, 1981: "Silizium - Werkstoff der Elektronik"

Siemens mitteilungen, 1974: "Frischer Wind im alten Schloß"

Sammlung verschiedener Scriptum-Artikel zur Halbleitergeschichte (historisches Archiv der Infineon Technologies AG)

Weitere Einblicke in die Geschichte des IISB liefern unsere Jahresberichte.

 

Lesen Sie in unserer Broschüre mehr zu Pretzfeld, dem wahren "Silicon Valley".