Treffen der GMM-Fachgruppe 1.2.6 "Prozesskontrolle, Inspektion & Analytik"

Spurenanalytik von Reinstwasser mittels ICP-MS in der Halbleitertechnologie
Fabian Lodermeyer, Siltronic, Burghausen

Massenspektroskopie der Masse m = 0: Untersuchung von leerstellenartigen Defekten in Halbleitern mittels Positronen-Lebensdauerspektroskopie
Marcel Dickmann, Universität der Bundeswehr München, Neubiberg

Hybrid SIMS: New possibilities for advanced semiconductor structure analysis with Self-Focusing SIMS
Sven Kayser, IONTOF GmbH, Münster

Wafer Environment Control for yield enhancement in Semi Fabs
Manuel Didierjean, Pfeiffer Vacuum, Annecy/Frankreich

Analyse von Nanopartikeln mittels single particle (sp) ICP-MS, beispielhaft die Messung von 15 nm Fe2O3-Partikeln in organischen Lösungsmitteln
Jörg Hansmann, Agilent, Frankfurt a. M.

Überblick über massenspektrometrische Methoden im Bereich der Halbleiter- und Spezialanalytik
Julia Bode, Fresenius, Dresden